蚀刻气体
* 来源: * 作者: * 发表时间: 2020/05/16 1:59:01 * 浏览: 1
蚀刻气体：蚀刻是在不进行光致抗蚀剂掩膜的情况下蚀刻掉基板上的氧化硅膜和金属膜等处理表面，从而保留光致抗蚀剂覆盖的区域，从而在基板上获得表面。所需的成像图形。蚀刻的基本要求是图案的边缘要整齐，线条清晰，图案之间的差异很小，并且光致抗蚀剂膜及其掩膜保护层上不得有损伤和腐蚀。蚀刻方法包括湿法化学蚀刻和干法化学蚀刻。用于干法刻蚀的气体称为刻蚀气体，通常是氟化物气体，例如四氟化碳，三氟化氮，六氟乙烷，全氟丙烷，三氟甲烷等。干法刻蚀方向强，精确且方便，因此具有广泛的应用范围。工艺控制，无脱胶，无基材损坏和污染。
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