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蚀刻气体

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2020/09/20 1:33:29 * 浏览: 2
刻蚀气体(Etchinggases):刻蚀是在没有光致抗蚀剂掩膜的情况下蚀刻掉基板上的加工表面,例如氧化硅膜,金属膜等,从而保留被光致抗蚀剂掩盖的区域,从而使表面获得基材。所需的成像图形。蚀刻的基本要求是图形的边缘要整齐,线条清晰,图形的差异很小,并且光致抗蚀剂膜和掩膜保护层的表面不得受损或底切。蚀刻方法包括湿法化学蚀刻和干法化学蚀刻。干法蚀刻中使用的气体称为蚀刻气体,通常为氟化物气体,例如四氟化碳,三氟化氮,六氟乙烷,全氟丙烷,三氟甲烷等。干法蚀刻由于其强大的蚀刻方向,精确的工艺控制而具有越来越广泛的应用范围,方便,无脱胶,无基材损坏和污染。