特种气体在LED中的应用

特种气体属于光电子学，微电子学等领域，特别是以大规模集成电路，液晶显示装置，非晶硅薄膜太阳能电池，半导体发光装置和半导体材料制造工艺的形式。它的纯度和清洁度直接影响光电子，微电子元件的质量，集成度，特定的技术规格和成品率，并从根本上限制电路和器件的精度。半导体照明正在兴起。随着化合物半导体市场的扩大，对特种气体的需求呈现出更大的增长趋势。外延生长需要大量的超纯源和工艺气体。目前，台湾和日本的化合物半导体市场具有很高的市场份额。近年来，中国和韩国的发展势头强劲，北美和欧洲的份额也有所增加。半导体技术中使用的特殊气体对生产，填充，运输和存储有严格的技术要求。因此，目前国内市场较大，供应量较小。 LED行业中使用的特种气体半导体行业中的气体种类繁多，对质量的要求高，且用量低，且大多数为有毒或腐蚀性气体。有一百多个品种。半导体行业中特种气体的分类，包括：1.硅气体：硅基硅烷，例如硅烷，二氯二氢硅烷，乙硅烷等。2.掺杂气体：硼，磷，砷等。以及五组原子气体诸如三氯化硼，三氟化硼，膦，ine等。 3.蚀刻清洁气体：主要包含卤化物和卤化碳化合物，例如氯气，三氟化氮，溴化氢，四氟化碳，六氟乙烷等。 4.反应气体：主要是基于碳的和基于氮的氧化物，例如二氧化碳，氨和一氧化二氮。 5.金属气相沉积气体：包含卤化金属和有机烷烃金属，例如六氟化钨或三甲基镓。在LED产业链中，外延技术，设备和材料是外延晶圆制造技术的关键。当前的MOCVD工艺已成为制造大多数光电材料的基本技术。外延技术所需的超纯特种气体包括高纯砷，高纯膦，高纯氨，砷化镓生产中的硅烷N型掺杂，氯化氢和氯气通常用作蚀刻气体，氩气，氢气和氮。它是必要的载气。同时，外延生长所需的有机源主要是三甲基镓，三甲基铟，三甲基铝，二乙基锌，二甲基锌，二茂铁等。现有技术的发展对这些产品的质量要求越来越高。在半导体化合物的生产过程中，除了纯特种外，还需要一些混合气体，主要包括SiH4 / H2.SiH4 / N2作为成膜源。尽管剂量不大，但是产品质量极高，并且制备了混合气体。露点低于-95°C，是确保外延晶圆生长良率的唯一方法。化合物半导体产业的发展带动了原材料市场的快速增长，包括晶片，基板，蚀刻剂，工艺气体，有机金属化合物，测试和包装材料，其每年增长约21％，而工艺气体（砷，磷化氢，氨，氩，氢，氮，氯化氢，氯等占原料总消耗的8％。