掺杂气体

掺杂剂气体：在半导体器件和集成电路的制造中，某些杂质或某些杂质被掺杂到半导体材料中，从而使该材料具有所需的导电类型和一定的电阻率。它用于制作PN结，电阻，掩埋层等。掺杂过程中使用的气体掺杂源称为掺杂气体。它主要包括砷，膦，三氟化磷，五氟化磷，三氟化砷，五氟化砷，三氯化硼和乙硼烷。通常，掺杂源和载气（例如氩气和氮气）在源机柜中混合。混合后，气流连续流入扩散炉并包围晶片。化合物掺杂物沉积在晶片表面上，与硅反应生成掺杂金属迁移到硅中。